Jena 2013 – wissenschaftliches Programm

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SYOS: Symposium Plasma und Optische Schichten

SYOS 1: Plasma und Optische Technologien I

SYOS 1.2: Hauptvortrag

Dienstag, 26. Februar 2013, 11:10–11:50, HS 2

Plasma und optische Technologien: PluTO — •Norbert Kaiser — Fraunhofer IOF, Jena

Optiken bestehen aus Materialien, funktionalisierten Oberflächen und Schichten. Sie sind die Grundbausteine der modernen Photonik und werden zur Kontrolle von Licht in allen seinen Eigenschaften von der Erzeugung bis zur Anwendung eingesetzt. Im Zuge der rasanten Entwicklung der photonischen Technologien ist eine große Vielfalt von Optik-Komponenten und Systemen entstanden, deren Funktions-spektrum kontinuierlich ausgeweitet wird. Die Kunden kommen heute vorrangig aus den Märkten Produktion, Lithografie, Medizintechnik, Instrumentierung und Messtechnik, Grundlagenforschung und Astronomie, Luft- und Raumfahrt, Information und Kommunikation und Automotive. Für die Oberflächenfunktionalisierung sind Plasmen unverzichtbares Arbeitsmittel und Stoffwandler. Um die Dünnschicht- und Plasmatechnologien zusammenzuführen, wurde vor 4 Jahren vom BMBF das Pilotprojekt PluTO initiiert. Das Konsortium aus Experten der optischen Beschichtungstechnologie und der Plasmatechnik wird im Rahmen dieses Symposiums die Ergebnisse präsentieren. Die Resonanz der optischen Industrie lässt nun ein Folgeprojekt PluTO+ möglich erscheinen. Es wird analysiert, welche Auswirkungen das für zukünftige Entwicklungen der modernen Optik haben würde.