Jena 2013 – wissenschaftliches Programm

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SYOS: Symposium Plasma und Optische Schichten

SYOS 1: Plasma und Optische Technologien I

SYOS 1.3: Hauptvortrag

Dienstag, 26. Februar 2013, 11:50–12:20, HS 2

Entspiegelung von Oberflächen durch plasmageätzte Nanostrukturen — •Ulrike Schulz — Fraunhofer IOF, Jena, D

Bei vielen optischen Anwendungen besteht die Forderung, eine möglichst hohe Lichttransmission zu erreichen. Reflexionsverluste müssen durch spezielle Oberflächenvergütungen unterdrückt werden. Neben Interferenzschichten bietet sich die Möglichkeit an, Sub-Wellenlängenstrukturen für die Entspiegelung zu nutzen. Es hat sich gezeigt, dass mit solchen Strukturen in vergleichsweise breiten Wellenlängenbereichen entspiegelt werden kann. Außerdem sind die so vergüteten Oberflächen toleranter gegenüber großen Lichteinfallswinkeln, als konventionelle Interferenzschichtsysteme. Am Fraunhofer IOF wird zur Erzeugung von Antireflexstrukturen auf verschiedenen kompakten Kunststoffen der patentierten Plasmaätzprozess AR-plas eingesetzt. Superbreitband-Entspiegelungen können jedoch auch auf Glas erreicht werden, wenn zunächst ein klassisches Interferenzschichtsystem aufgebracht und dieses mit einer strukturierten organischen Schicht abschlossen wird. Diese letzte Schicht wirkt dann als niedrigbrechendes effektives Medium und ist maßgeblich für das Erreichen der niedrigen Restreflexion verantwortlich.