Jena 2013 – scientific programme
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SYOS: Symposium Plasma und Optische Schichten
SYOS 2: Plasma und Optische Technologien II
SYOS 2.1: Invited Talk
Tuesday, February 26, 2013, 14:00–14:30, HS 2
Diagnostik und Steuerung von PIAD-Prozessen — •Jens Harhausen1, Rüdiger Foest1, Andreas Ohl1, Dieter Gäbler2, Norbert Kaiser2, Olaf Stenzel2, Steffen Wilbrandt2, Ralf-Peter Brinkmann3, Benjamin Schröder3, Robert Storch3 und Tim Styrnoll3 — 1INP Greifswald e.V. — 2Fraunhofer IOF — 3Ruhr-Universität Bochum
Die Plasma-ionengestützte Deposition optischer Schichten ist ein in der Industrie weit verbreitetes Verfahren. Eine häufig eingesetzte Plasmaquelle ist die Advanced Plasma Source (APS) der Leybold Optics GmbH. Im Rahmen des BMBF-Verbundprojekts PluTO konnten wesentliche Fortschritte zum Verständnis der Eigenschaften und Funktionsweise der Plasmaquelle und des Plasmas im Rezipienten erzielt werden. Etablierte Regelverfahren für PIAD-Prozesse basieren nicht auf der Erfassung von Plasmakenngrössen, sondern auf indirekten Grössen wie Strömen oder Spannungen. Der aktuelle Grad an Reproduzierbarkeit kann die wirtschaftliche Produktion von Schichten anspruchsvoller Spezifikationen erschweren. Dieser Beitrag diskutiert wesentliche Ursachen von Driften der Plasmastützung und zeigt neue Ansätze für die in-situ Erfassung von Plasmakenngrössen. Der Schwerpunkt liegt hierbei auf der optischen Emissionsspektroskopie und der Plasmaresonanzspektroskopie. Hieraus werden neue Konzepte für Regelverfahren von PIAD-Prozessen abgeleitet.