Jena 2013 – wissenschaftliches Programm

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SYOS: Symposium Plasma und Optische Schichten

SYOS 2: Plasma und Optische Technologien II

SYOS 2.3: Hauptvortrag

Dienstag, 26. Februar 2013, 15:00–15:30, HS 2

Plasmadiagnostik und Prozessüberwachung mit der Multipolresonanzsonde — •Ralf Peter Brinkmann, Michael Friedrichs, Martin Lapke, Jens Oberrath, Christian Schulz, Robert Storch, Tim Styrnoll, Peter Awakowitz, Thomas Mussenbrock, Thomas Musch und Ilona Rolfes — Ruhr-Universität Bochum, Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik

Die bei der plasmagestützten Fertigung erreichbare Qualität hängt im starken Maß von der Stabilität der eingesetzten Plasmaquelle ab. Die Diagnostik, Überwachung und ggf. Regelung solcher Quellen ist daher von besonderer technischer Bedeutung. Im Rahmen des BMBF-Projekts "Plasma und Optische Technologien" (PluTO) wurde die Multipol-Resonanz-Sonde (multipole resonance probe, MRP) als eine industrietaugliche und kostengünstige Methode zur Bestimmung von Plasmaparametern entwickelt und experimentell charakterisiert. Im Fokus dieses Vortrages stehen aktuelle neuere Ergebnisse dieses Vorhabens. Zum einen wird über die Weiterentwicklung der MRP in Richtung eines ortsauflösenden Plasma-Diagnostiksystems berichtet, zum zweiten über die in Richtung eines Monitors für die in-situ-Überwachung von Plasmaprozessen. Anwendungen beider Systeme in der Praxis werden ausführlich dargestellt.