Jena 2013 – wissenschaftliches Programm

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SYOS: Symposium Plasma und Optische Schichten

SYOS 2: Plasma und Optische Technologien II

SYOS 2.4: Hauptvortrag

Dienstag, 26. Februar 2013, 15:30–16:00, HS 2

Analyse des Ionenstrahlzerstäubens mittels Plasmadiagnostik — •Carsten Schmitz — Laser Zentrum Hannover e.V., 30419 Hannover

Um das grundlegende Verständnis des reaktiven Ionenstrahlzerstäubens, ein modernes Verfahren zur Abscheidung hochpräziser und multifunktionaler optischer Schichten, zu verbessern, ist der Prozess mit verschiedenen Plasmasonden analysiert worden. Den Kern bildete dabei ein Gegenfeldanalysator mit dem Ionenenergieverteilungen an unterschiedlichen Messpositionen bestimmt wurden. Durch die Modifikation des verwendeten Gegenfeldanalysators konnte der Öffnungswinkel reduziert und zielgerichtete Messungen ermöglicht werden. Damit können die gemessenen Ionen in Ionen aus dem Hintergrundplasma und Ionen vom Target separiert werden. Zusätzlich liefern Sekundärelektronen, die im Gegenfeldanalysator ausgelöst werden, den Nachweis über schnelle Neutralteilchen vom Target. Zusammenhänge mit den Schichteigenschaften werden diskutiert.