Jena 2013 – wissenschaftliches Programm

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SYOS: Symposium Plasma und Optische Schichten

SYOS 3: Plasma und Optische Technologien III

SYOS 3.1: Hauptvortrag

Dienstag, 26. Februar 2013, 16:30–17:00, HS 4

Design von amorphen optischen Schutzschichten mittels Multiskalenmodellierung — •Thomas Frauenheim — Bremer Center for Computational Materials Science, Universität Bremen

Klassische, quantenmechanische Einteilchen- und Vielteilchenkonzepte werden mit dem Ziel verbunden, binäre und ternäre optische Metalloxid-Schichten mit gewünschten optischen Parametern mittels Computermodellierung maßzuschneidern.