Regensburg 2013 – scientific programme
Parts | Days | Selection | Search | Updates | Downloads | Help
DS: Fachverband Dünne Schichten
DS 30: Thin Film Characterization: Structure Analysis and Composition (XRD, TEM, XPS, SIMS, RBS,...) II
DS 30.10: Talk
Thursday, March 14, 2013, 17:00–17:15, H32
Einfache Methode zur Steigerung der Empfindlichkeit in Null-Ellipsometrie — •Marco Muth1,2, Reiner P. Schmid1 und Klaus Schnitzlein2 — 1BTU Cottbus, Institut für Physik und Chemie, LS Leichtbaukeramik, Konrad-Zuse-Straße 1, 03046 Cottbus — 2BTU Cottbus, Institut für Verfahrenstechnik, LS Chemische Reaktionstechnik, Burger Chaussee 2, 03044 Cottbus
Die Ellipsometrie stellt eine Messmethode dar, bei der, basierend auf der Änderung des Polarisationszustandes von Licht, Brechungsindizes und Schichtdicken von Schichtsystemen, kontaktlos und schnell bis in den unteren Nanometer-Bereich untersucht werden können. In diesem Beitrag wird gezeigt, wie die geringfügige apparative Modifikation eines Null-Ellipsometers zu einer deutlich gesteigerten Empfindlichkeit der Messmethode führen kann. Beim Nachweis sehr dünner Schichten stößt das übliche Setup an seine Grenzen. Wie unsere Berechnungen und Messungen zeigen, führt eine Neujustierung des Kompensator-Azimuths, von den üblichen 45°, auf einen kleineren Wert, bei ausgewählten Schichtsystemen zu einer deutlichen Steigerung der Empfindlichkeit. Fehler werden minimiert und der Null-Findungs-Prozess optimiert. Somit ist an bestehenden Geräten eine Steigerung der Messgenauigkeit und Präzision möglich. Durch Modellrechnungen wird gezeigt, welche Schichtsysteme und Schichtdicken sich besonders eignen. Demonstriert wird die Leistungsfähigkeit der apparativen Modifikation durch Präsentation von Ergebnissen aus Messungen an den Schichtsystemen Luft/Protein/Wasser und Luft/SiO2/c-Si.