Berlin 2014 – wissenschaftliches Programm
Bereiche | Tage | Auswahl | Suche | Aktualisierungen | Downloads | Hilfe
P: Fachverband Plasmaphysik
P 18: Poster Session - Plasma Technology
P 18.4: Poster
Mittwoch, 19. März 2014, 16:30–18:30, SPA Foyer
Großflächige Hochrateabscheidung von Kratzschutzschichten auf Polycarbonat mittels Mikrowellen-PECVD — •Stefan Merli1, Andreas Schulz1, Matthias Walker1, Ulrich Stroth2 und Thomas Hirth1 — 1Institut für Grenzflächenverfahrenstechnik und Plasmatechnologie, Universität Stuttgart — 2Max-Planck-Institut für Plasmaphysik, EURATOM Assoziation, Garching
Die plasmagestützte Gasphasenabscheidung (PECVD) von Schutzschichten auf Kunststoffen, wie z. B. Polycarbonat (PC), gewinnt in der Industrie als Ersatz von Lackierungen immer mehr an Bedeutung. Für Anwendungen im Automobil- oder Architekturbereich muss der Prozess jedoch den Forderungen nach Schichtabscheidung mit hoher Rate und Skalierbarkeit auf einige m2 genügen.
Es wird daher ein skalierbarer Mikrowellen-PECVD-Prozess zur Abscheidung von SiOx-basierten Kratzschutzschichten auf PC untersucht. Der Prozess wurde zunächst auf kleiner Fläche (10 × 15 cm2) erforscht. Die Duo-Plasmaline diente als Plasmaquelle und Hexamethyldisiloxan (HMDSO) und O2 als Ausgangsstoffe für die Schichtbascheidung. Abscheideraten von 100 µm/min wurden erreicht und die Schichten wurden mittels FTIR-Spektroskopie und XPS charakterisiert. Es konnten Schichten mit hoher optischer Qualität, guter Haftung sowie hohem Abriebwiderstand hergestellt werden. In einem zweiten Schritt wurde die Aufskalierung mit einer dynamischen In-Line Beschichtunsganlage auf einer Substratfläche von 50 × 100 cm2 realisiert. Die dynamischen Abscheideraten betrugen bis zu 3 µ m· m/min. Die Ergebnisse beider Beschichtungssysteme werden gegenübergestellt.