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SYOT: Symposium Plasma und Optische Technologien

SYOT 2: Verbund PluTO: Plasma und optische Technologien

SYOT 2.3: Hauptvortrag

Dienstag, 18. März 2014, 11:50–12:20, SPA Kapelle

Plasma-ionengestützte Abscheidung von Hafnium- und Tantaloxidschichten unter Nutzung von Xenon und Argon als Arbeitsgas — •Olaf Stenzel, Steffen Wilbrandt, Ralph Schlegel und Norbert Kaiser — Fraunhofer IOF, Albert-Einstein-Str. 7, 07745 Jena

Der Beitrag zeigt ausgewählte Ergebnisse zur Struktur-Eigenschaftsrelation von Dünnschichtproben, die mit plasma-ionengestützter Elektronenstrahlverdampfung (PIAD) mithilfe der Plasmaquelle Leybold APSpro präpariert worden sind. Im Zentrum des Beitrags stehen die Materialien HfO2 und Ta2O5. Aufgezeigt werden Korrelationen zwischen den Ergebnissen von Strukturuntersuchungen mittels Röntgenreflektometrie und hochaufgelöster Elektronenmikroskopie, sowie optischen und mechanischen Schichteigenschaften (Brechzahl, Extinktionskoeffizient, Bandlücke, Shift, und mechanische Spannung). Es wird gezeigt, dass hinsichtlich der erreichbaren optischen Eigenschaften, die Nutzung von Xenon spezifische Vorteile im Vergleich zur Nutzung von Argon mit sich bringen kann.