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HK: Fachverband Physik der Hadronen und Kerne
HK 46: Poster
HK 46.39: Poster
Donnerstag, 20. März 2014, 16:00–18:00, HZ Poster
Bestimmung der Nachweisgrenze bei der Tiefenprofilierung von Fluor in TiAl mittels PIGE — •Daniel Brenner1, Hans-Eberhard Zschau2, Sven Neve1 und Lothar Schmidt1 — 1Institut für Kernphysik, Frankfurt a.M., Deutschland — 2Dechema-Forschungsinstitut, Frankfurt a.M., Deutschland
Die Modifizierung der Oberflächen von Titan-Aluminium-Legierungen mit Fluor verbessert die Oxidationsbeständigkeit bei hohen Temperaturen. Bei einem neuen Verfahren des Recyclings des Werkstoffs werden geringe Mengen CaF2 zugesetzt. Auch dies könnte zu einem erfolgreichen Oxidationsschutz führen.
Um einen erfolgreichen Halogeneffekt für geringe Konzentrationen von Fluor nachweisen oder widerlegen zu können, muss Fluor auch im ppm-Bereich zerstörungsfrei nachgewiesen werden können. Dazu wurden TiAl-Proben mit geringen Mengen Fluor oberflächennah implantiert. Durch Mehrfachimplantationen kann ein Bereich annähernd konstanter Fluor-Konzentration realisiert werden. Die Technik der Proton Induced Gamma Emission (PIGE) diente zum Nachweis der implantierten Profile. Die Nachweisgrenze unter den Bedingungen der zerstörungsfreien Tiefenprofilierung des bisher üblichen Messsystems mit NaI-Detektor und VKA wurde auf 400 ppm bestimmt und nach Umstieg auf digitale Datenaufnahme weiter verbessert. Es wurden sowohl mit Fluor implantierte TiAl-Proben, als auch Proben aus recyceltem TiAl untersucht.