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MI: Fachverband Mikrosonden

MI 8: Ionenstrahlmethoden

MI 8.1: Vortrag

Mittwoch, 18. März 2015, 11:00–11:15, EMH 225

Ionenfeinstrahlen hochgeladener Ionen zur Analytik von Festkörperoberflächen und von Flüssigkeiten — •Günter Zschornack^1,2, Mike Schmidt², Jacques Gierak³, Ulrich Kentsch² und Erik Ritter² — ¹TU Dresden, Fachrichtung Physik und HZDR, Institut für Ionenstrahlphysik und Materialforschung — ²Dreebit GmbH, Großröhrsdorf — ³LPN/CNRS Marcoussis, Frankreich

Beschrieben wird eine neue Generation von Ionenfeinstrahlanlagen (IFA) unter Verwendung hochgeladener Ionen (HCI) aus einer HCI-Kompaktquelle (EBIS). Mit diesen wird es möglich, bei kurzen Umrüstzeiten die Projektilart zu wechseln und Ionenfeinstrahlen für alle Edelgase als nicht-toxische Projektile anzubieten. Die Kombination einer EBIS mit einem Wienfilter ermöglicht es für IFA unter Nutzung des Beschleunigungspotenzials der ionenoptischen Säule unterschiedliche Ionenenergien zu realisieren. Damit können über die Projektilenergie verschiedene Implantationstiefen in Festkörpern realisiert werden. Die Entwicklung eines HCI-FIB ermöglicht es in Verbindung mit einem TOF-SIMS-Spektrometer chemische Landkarten von Proben zu erhalten. Durch den Einsatz diverser Projektile mit verschiedenen Ladungszuständen kann eine der Probe angepasste optimale Analyseform gefunden werden und es können biologische oder soft matter Proben schonend analysiert werden. Weiter wird gezeigt dass neben Festkörperoberflächen auch flüssige Proben hinsichtlich Ihrer Element- und Isotopenzusammensetzung charakterisiert werden können.