Bochum 2015 – scientific programme

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K: Fachverband Kurzzeitphysik

K 1: Licht- und Strahlungsquellen, EUV

K 1.5: Talk

Monday, March 2, 2015, 15:20–15:40, HZO 40

Plasma basierte Strahlquelle als intensiver Emitter für 6.x nm Strahlung — •Alexander von Wezyk und Klaus Bergmann — Fraunhofer Institut für Lasertechnik ILT, Aachen

Plasmen sind als intensive Strahlungsquellen für weiche Röntgen- und Extrem Ultraviolett Strahlung bekannt. So werden derzeit intensiv Laser und entladungsbasierte Konzepte für die kommende Generation der Chipproduktion bei einer Wellenlänge von 13.5 nm erforscht. Als möglicher Nachfolger dieser Technologie gilt die Produktion bei einer Zentralwellenlänge von 6.x nm. Im Vortrag wird das Potenzial verschiedener Emitter in Plasmen vorgestellt. Es wird ein Konzept auf Basis von einer Kryton Gasentladung ausführlicher diskutiert. Erste Ergebnisse bezüglich der spektralen Emission, Konversionseffizienz, Quellgröße, Brillanz und nutzbarer Inband-Strahlungsleistung (6.67 nm +/-0,6% b.w.) werden vorgestellt. In den beobachteten Emissionsspektren werden die erreichten Ionisationsstufen und Linienübergänge zugeordnet, woraus Rückschlüsse auf den Zustand des Plasmas gezogen werden. Die Auswirkung der Variation der Anlagenparameter auf den Plasmazustand wird anhand von Modelrechnungen abgeschätzt.