Bochum 2015 – wissenschaftliches Programm

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P: Fachverband Plasmaphysik

P 17: Poster Session - Plasma Technology

P 17.1: Poster

Dienstag, 3. März 2015, 16:30–18:30, Foyer Audimax

Fortschritte bei der Etablierung einer Reaktionskinetik für Hexamethyldisiloxan im Atmosphärendruckplasmajet in Argon — •Detlef Loffhagen, Markus M. Becker, Rüdiger Foest, Jan Schäfer und Florian Sigeneger — INP Greifswald, Felix-Hausdorff-Str. 2, 17489 Greifswald

Hexamethyldisiloxan (HMDSO) ist eine siliziumorganische Verbindung, die aufgrund ihrer hohen Depositionsrate und geringen Toxizität vielfach als Präkursor bei der Dünnschichtabscheidung mittels plasmagestützter chemischer Gasphasenabscheidung (PECVD) verwendet wird. Zur Verbesserung des physikalischen Verständnisses der Beschichtungsprozesse werden grundlegende Untersuchungen durchgeführt, um die plasmachemischen Reaktionskanäle von HMDSO und ihren Einfluss auf die Zusammensetzung und Struktur der abgeschiedenen Schicht aufzuklären. Dieser Beitrag befasst sich mit den wesentlichen plasmachemischen Prozessen und deren Reaktionsprodukten im Effluenten eines Atmosphärendruckplasmajets in Argon. Die Bedeutung der verschiedenen Stoßprozesse der Elektronen und schweren Teilchen in der frühen Mischungsphase wird anhand von Ergebnissen einer numerischen Modellierung des zeitabhängigen Verhalten des Ar-HMDSO-Plasmas für unterschiedliche Plasmaparameter analysiert. Dabei werden die ionischen und neutralen Polymerisationsprodukte und Fragmentationsprodukte diskutiert und Aussagen zu eventuell messbaren Spezies getroffen.

Die Arbeiten werden durch die Deutsche Forschungsgemeinschaft unter dem Geschäftszeichen LO 623/3-1 unterstützt.