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P: Fachverband Plasmaphysik
P 5: Poster Session - Low Temperature Plasmas
P 5.9: Poster
Monday, March 2, 2015, 16:30–18:30, Foyer Audimax
Einschlussgüte von hochenergetischen Beamelektronen in kapazitiven RF-Entladungen — •Sebastian Wilczek1, Jan Trieschmann1, Ralf Peter Brinkmann1, Julian Schulze2, Edmund Schüngel2, Ihor Korolov3, Aranka Derzsi3, Zoltán Donkó3 und Thomas Mussenbrock1 — 1TET, Ruhr-Universität Bochum, Germany — 2Department of Physics, West Virginia University, Morgantown, USA — 3Wigner Research Center for Physics, Hungarian Academy of Sciences, Budapest, Hungary
Die Dynamik von hochenergetischen Beamelektronen spielt in kapazitiven Hochfrequenz-Entladungen vor allem bei geringen Drücken eine wichtige Rolle. Diese gerichteten Elektronen werden durch die Randschichtexpansion beschleunigt und können bei einem geringen Elektrodenabstand ohne Stöße die gegenüberliegende Randschicht erreichen. Da die Energie der Beamelektronen durchaus größer ist, als die Ionisationsgrenze diverser Gase, sind diese essentiell wichtig, um das Plasma aufrecht zu erhalten. Es stellt sich somit die Frage, wie die Einschlussqualität für Elektronen an den Grenzflächen der Entladung ist. Bei einer geeigneten Wahl von Anregungsfrequenz, Plattenabstand und Druck können die Beamelektronen so beschleunigt werden, dass der Beam das Minimum der gegenüberliegenden oszillierenden Randschicht trifft. In diesem Fall überwinden die Beamelektronen das Randschichtpotential und gehen samt ihrer Energie an der Elektrode verloren. In dieser Arbeit wird im Rahmen von Particle-In-Cell Simulationen eine Frequenzvariation durchgeführt, um anschließend die Einschlussgüte der Elektronen über ein analytisches Modell zu diskutieren.