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SYOT: Symposium Plasma und Optische Technologien

SYOT 2: Plasma und Optische Technologien II

SYOT 2.1: Hauptvortrag

Dienstag, 3. März 2015, 14:00–14:30, HZO 80

Charakterisierung des PIAD-Plasmas - aktueller Stand und neue Ansätze — •Jens Harhausen, Detlef Loffhagen und Rüdiger Foest — Leibniz-Institut für Plasmaforschung und Technologie Greifswald, Felix-Hausdorff-Straße 2, 17489 Greifswald

Zur Herstellung von Dünnschichtsystemen der Interferenzoptik, einem Schlüsselelement der optischen Komponenten in Bildgebung, Laseroptik oder Messtechnik, nehmen Anlagen auf Basis der plasma-ionen-gestützten Deposition (PIAD) eine prominente Stellung ein. In der PIAD werden offene Plasmaquellen eingesetzt, deren Anwendung bis vor kurzem weitgehend auf der empirischen Optimierung der Schichteigenschaften beruhte. Im Rahmen des BMBF-Verbundvorhabens PluTo erfolgte erstmals eine umfassende Charakterisierung des PIAD-Plasmas, die das Verständnis zu Funktionsweise der Quelle und Prozessführung entscheidend erweitern konnte. Der Beitrag stellt wesentliche Erkenntnisse basierend auf Daten zu Elektronen- und Ionenkinetik, sowie optischer Emission vor. Diese betreffen den Mechanismus der Plasmaexpansion, den Ionisierungsgrad und die Dämpfung des Ionenstrahls zwischen Quelle und Substrat. Es folgt ein Ausblick auf weitere diagnostische Herangehensweisen zur Untersuchung von Plasmafluktuationen.

Im zweiten Teil soll der Frage nachgegangen werden, wie der aktuelle Kenntnisstand zu einer Verbesserung der Prozesse in Produktionsanlagen genutzt werden kann. Hierzu werden Ansätze zur in-situ Plasmadiagnostik und darauf aufbauende Regelkonzepte vorgestellt.