SYOT 2: Plasma und Optische Technologien II
Dienstag, 3. März 2015, 14:00–17:30, HZO 80
 |
14:00 |
SYOT 2.1 |
Hauptvortrag:
Charakterisierung des PIAD-Plasmas - aktueller Stand und neue Ansätze — •Jens Harhausen, Detlef Loffhagen und Rüdiger Foest
|
|
|
|
14:30 |
SYOT 2.2 |
Hauptvortrag:
Untersuchungen an plasma-ionengestützt abgeschiedenen UV-Schichten auf Aluminiumoxidbasis — •Christian Franke, Olaf Stenzel, Steffen Wilbrandt, Norbert Kaiser und Andreas Tünnermann
|
|
|
|
15:00 |
SYOT 2.3 |
Hauptvortrag:
Deposition von SiOx-Barriereschichten aus gepulsten Mikrowellenplasmen: Korrelation von Plasmadiagnostik und Schichtanalytik — •Peter Awakowicz, Felix Mitschker, Simon Steves, Nikita Bibinov, Berkem Oezkaya und Guido Grundmeyer
|
|
|
|
15:30 |
SYOT 2.4 |
Hauptvortrag:
Ansätze für einen adaptiven Ionenstrahl-Zerstäubungs-Prozess (IBS) — •Florian Carstens
|
|
|
| |
16:00 |
|
Kaffeepause
|
|
|
|
16:30 |
SYOT 2.5 |
Hauptvortrag:
Prozessüberwachung und Prozessregelung auf Basis der Multipolresonanzsonde — •Ralf Peter Brinkmann
|
|
|
|
17:00 |
SYOT 2.6 |
Hauptvortrag:
Computational approach to the design of amorphous metal oxide coatings for optical applications — Thomas Frauenheim, •Thomas Köhler, Detlev Ristau, Henrik Ehlers, Marcus Turowski, Marc Landmann, and Eva Rauls
|
|
|