Hannover 2016 – wissenschaftliches Programm

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P: Fachverband Plasmaphysik

P 18: Poster Session- Plasma Technology

P 18.2: Poster

Mittwoch, 2. März 2016, 16:30–19:00, Empore Lichthof

Stress in a-C:H und a-Si:H Schichten auf PET — •Markus Brochhagen, Jan Benedikt und Marc Böke — Ruhr-Universität Bochum, Experimentalphysik II, Universitätsstraße 150, 44801 Bochum

a-C:H und a-Si:H Schichten werden verwendet um auf PET flexible Barriereschichten aufzutragen. Zur Verbesserung der Dehnungstoleranz ist das Verständnis des intrinsischen Stresses in den verschiedenen Schichten von hoher Bedeutung. Verschiedene Kohlenstoff- und Silizium-haltige Schichten werden auf PET in induktiv und kapazitiv gekoppelten Plasmen abgeschieden und anschließend auf ihre Barriere- und Dehnungs-Eigenschaften untersucht. Zusätzlich werden Änderungen des intrinsischen Stresses in Abhängigkeit des Substratbias beobachtet und überprüft, ob thermische Einflüsse während des Beschichtungsprozesses eine Rolle spielen. Für a-C:H Schichten auf PET konnte gezeigt werden, dass eingestellter intrinsischer Stress die Dehnungstoleranz verbessern kann. Im weiteren Verlauf wird die Übertragbarkeit für Silizium-haltige Schichten untersucht.