P 18: Poster Session- Plasma Technology
Mittwoch, 2. März 2016, 16:30–19:00, Empore Lichthof
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P 18.1 |
Energieaufgelöste Massenspektrometrie an prekursor-haltigen Prozessplasmen — •Nils Lukat, Erik von Wahl und Holger Kersten
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Stress in a-C:H und a-Si:H Schichten auf PET — •Markus Brochhagen, Jan Benedikt und Marc Böke
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P 18.3 |
Plasma etch requirements for technological preparation of photonic building blocks — •Harald Richter, David Stolarek, Mirko Fraschke, Steffen Marschmeyer, Christian Mai, Stefan Lischke, Lars Zimmermann, Andreas Mai, Stefan Meister, Christoph Theiss, and Hanjo Rhee
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P 18.4 |
Timing and reproducibility of pin to plate pulsed nanosecond discharges in air and water — •Emile Carbone, Bang-Dou Huang, Yi-Kang Pu, and Uwe Czarnetzki
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