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P: Fachverband Plasmaphysik

P 27: Low Temperature Plasmas III

P 27.2: Vortrag

Freitag, 4. März 2016, 11:15–11:30, b305

Analyse der Dynamik von RF-modulierten Elektronenbeams in kapazitiv gekoppelten Plasmen — •Sebastian Wilczek¹, Jan Trieschmann¹, Ralf Peter Brinkmann¹, Julian Schulze², Edmund Schüngel², Aranka Derzsi³, Ihor Korolov³, Peter Hartmann³, Zoltán Donkó³ und Thomas Mussenbrock¹ — ¹Ruhr-Uni Bochum, Bochum, Germany — ²West Virginia University, Morgentown, USA — ³Wigner Research Center for Physics, Budapest, Hungary

In kapazitiven Niederdruckentladungen ist das Beschleunigen von hochenergetischen Elektronen durch die Randschichtexpansion (Entstehung von Elektronenbeams) einer der wichtigsten Heizungsmechanismen. Der Einfluss von grundlegenden Prozessparametern (z.B. Plattenabstand, Anregungsfrequenz, Druck, Elektrodenanordnung und Elektrodenspannung) kann die Dynamik dieser Elektronenbeams signifikant beeinflussen. Sowohl die Formation als auch die Reflektion an der gegenüberliegenden Randschicht kann durch eine geeignete Wahl dieser Parameter kontrolliert werden. Infolgedessen können prozessrelevante Größen, wie Elektronendichte, Ionenfluss und Verteilungsfunktionen, optimiert werden. In diesem Beitrag werden mithilfe von 1d3v Particle-In-Cell Simulationen Parameterstudien durchgeführt, welche den Einfluss der oben genannten Prozessparameter in Bezug auf die Dynamik der Elektronenbeams und weitere relevante Plasmagrößen bestimmen.