P 4: Plasma Technology
Montag, 29. Februar 2016, 14:30–16:35, b305
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14:30 |
P 4.1 |
Hauptvortrag:
Impact of electron attachment processes on nonthermal plasmas — •Jürgen Meichsner, Sebastian Nemschokmichal, Robert Tschiersch, and Thomas Wegner
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15:00 |
P 4.2 |
Fachvortrag:
Entladungsdynamik einer Mikrowellenplasmaquelle und ihr Einsatz bei Atmosphärendruck zur Dekontamination von Lebensmitteln im technologischen Maßstab — •Mathias Andrasch, Uta Schnabel, Klaus-Dieter Weltmann und Jörg Ehlbeck
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15:25 |
P 4.3 |
Fachvortrag:
Optical investigations of diffuse and constricted high-current vacuum arcs — •Kristoffer Ole Menzel, Thierry Delachaux, Ralf-Patrick Sütterlin, Markus Abplanalp, Ralf Methling, Steffen Franke, and Sergey Gortschakow
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15:50 |
P 4.4 |
Dekomposition von VOCs mit dielektrisch behinderten Oberflächenentladungen — •Michael Schmidt, Eric Timmermann, Ronny Brandenburg und Manfred Kettlitz
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16:05 |
P 4.5 |
Vergleich eines numerischen und analytischen Modells zur Simulation der Modenausbreitung in einem Mikrowellenplasma — •Daniel Szeremley, Thomas Mussenbrock, Ralf Peter Brinkmann, Marc Zimmermanns, Ilona Rolfes und Denis Eremin
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16:20 |
P 4.6 |
Modellierung der CO2-Dissoziation in dielektrisch behinderten Entladungen — •Markus M. Becker, Srinath Ponduri, Richard Engeln und Detlef Loffhagen
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