Bremen 2017 – wissenschaftliches Programm

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SYPO: Symposium Plasma und Optische Technologien

SYPO 2: Plasma und Optische Technologien I

SYPO 2.1: Hauptvortrag

Mittwoch, 15. März 2017, 14:10–14:35, GW1 HS

Herstellung von Interferenz-Schichtsystemen - vom Design zum fertigen Filter — •Detlef Arhilger — Bühler Alzenau GmbH, Siemensstr. 88, 63755 Alzenau

Heutige Dünnschicht-Spezifikationen stellen hohe Anforderungen an die Anlagentechnik sowie die Reproduzierbarkeit der Schichtdicken-Messung. Die Präsentation beschreibt die Vorgehensweise zur Herstellung von Interferenz-Schichtsystemen vom Design bis zum fertigen Filter. Der Fokus des Beitrags liegt hierbei auf der optischen Schichtdickenmessung mittels OMS 5100 (monochromatisches Monitoring). Neben einer kurzen Einführung in die Anlagentechnik werden Beispiele aus Aufdampfanlagen (Syruspro) sowie Magnetron-Sputteranlagen (Helios) präsentiert.