SYPO 4: Plasma und Optische Technologien II
Mittwoch, 15. März 2017, 16:20–18:00, GW1 HS
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16:20 |
SYPO 4.1 |
Hauptvortrag:
Diagnostics and Control Schemes for Industrial PIAD Processes — Jens Harhausen, •Rüdiger Foest, Christian Franke, Olaf Stenzel, Jochen Wauer, and Steffen Wilbrandt
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16:45 |
SYPO 4.2 |
Hauptvortrag:
Wiederholbarkeit optischer Konstanten von plasmagestützt abgeschiedenen Oxidschichten — •Olaf Stenzel und Steffen Wilbrandt
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17:10 |
SYPO 4.3 |
Hauptvortrag:
Die Multipolresonanzsonde: Von der Diagnostik zur Systemanwendung — •Moritz Oberberg, Marcel Fiebrandt, Stefan Ries, Nikita Bibinov und Peter Awakowicz
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17:35 |
SYPO 4.4 |
Hauptvortrag:
Low stress transparent materials for optical coatings on flexible substrates — •Melanie Gauch, Henrik Ehlers, and Detlev Ristau
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