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DS: Fachverband Dünne Schichten

DS 14: Poster

DS 14.58: Poster

Dienstag, 2. April 2019, 17:00–20:00, Poster E

Herstellung von Schichten aus MoN_x mittels hoch-ionisierender PVD-Verfahren — Martin Balzer¹, Martin Kommer¹, •Sabine Stück², Martin Fenker¹ und Frank Schmidl² — ¹Forschungsinstitut Edelmetalle+Metallchemie, Katharinenstraße 17, 73525 Schwäbisch Gmünd — ²Friedrich-Schiller Universität Jena, Physikalisch-Astronomische Fakultät, Institut für Festkörperphysik, Helmholtzweg 5, 07743 Jena

Schichten aus Übergangsmetallnitriden finden aufgrund ihrer extremen Härte, hohen Schmelzpunkte und chemischer Stabilität vorallem Anwendung als Verschleißschutzschichten. Hier gewinnen Molybdännitride (MoN_x) aufgrund ihrer überlegenen mechanischen Eigenschaften zunehmend an Interesse. Unter den Übergangsmetallnitriden weisen die Molybdännitride deutlich erhöhte Härtewerte und eine sich selbst ausbildende schmierende Phase (Magnéli-Phase) bei erhöhten Temperaruren auf. Diese Eigenschaften machen das Material interessant für tribologische Anwendungen.

Wir haben Schichten aus Molybdännitrid mit unterschiedlicher Kristallstruktur und Zusammensetzung hergestellt. Besonders von Interesse ist die Herstellung des hexagonalen δ-MoN, da diese Phase nicht mit allen PVD-Verfahren hergestellt werden kann. Wir verwenden die hoch-ionisierenden PVD-Verfahren HiPIMS (High Power Impulse Magnetron Sputtering) und PLD (Pulsed Laser Deposition). Die beiden Verfahren werden hier dargestellt, sowie der beobachtete Einfluss der Prozessparameter auf die Schichtbildung erörtert. Die Möglichkeiten und Grenzen der beiden Verfahren sollen hier aufgezeigt werden.