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DS: Fachverband Dünne Schichten
DS 14: Poster
DS 14.58: Poster
Tuesday, April 2, 2019, 17:00–20:00, Poster E
Herstellung von Schichten aus MoNx mittels hoch-ionisierender PVD-Verfahren — Martin Balzer1, Martin Kommer1, •Sabine Stück2, Martin Fenker1 und Frank Schmidl2 — 1Forschungsinstitut Edelmetalle+Metallchemie, Katharinenstraße 17, 73525 Schwäbisch Gmünd — 2Friedrich-Schiller Universität Jena, Physikalisch-Astronomische Fakultät, Institut für Festkörperphysik, Helmholtzweg 5, 07743 Jena
Schichten aus Übergangsmetallnitriden finden aufgrund ihrer extremen Härte, hohen Schmelzpunkte und chemischer Stabilität vorallem Anwendung als Verschleißschutzschichten. Hier gewinnen Molybdännitride (MoNx) aufgrund ihrer überlegenen mechanischen Eigenschaften zunehmend an Interesse. Unter den Übergangsmetallnitriden weisen die Molybdännitride deutlich erhöhte Härtewerte und eine sich selbst ausbildende schmierende Phase (Magnéli-Phase) bei erhöhten Temperaruren auf. Diese Eigenschaften machen das Material interessant für tribologische Anwendungen.
Wir haben Schichten aus Molybdännitrid mit unterschiedlicher Kristallstruktur und Zusammensetzung hergestellt. Besonders von Interesse ist die Herstellung des hexagonalen δ-MoN, da diese Phase nicht mit allen PVD-Verfahren hergestellt werden kann. Wir verwenden die hoch-ionisierenden PVD-Verfahren HiPIMS (High Power Impulse Magnetron Sputtering) und PLD (Pulsed Laser Deposition). Die beiden Verfahren werden hier dargestellt, sowie der beobachtete Einfluss der Prozessparameter auf die Schichtbildung erörtert. Die Möglichkeiten und Grenzen der beiden Verfahren sollen hier aufgezeigt werden.