Berlin 2024 – wissenschaftliches Programm

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DS: Fachverband Dünne Schichten

DS 4: Layer Deposition

Montag, 18. März 2024, 16:00–17:15, A 060

	16:00	DS 4.1	Real-Time Investigations during Sputter Deposition on Polymer Thin Films. — •Matthias Schwartzkopf
	16:15	DS 4.2	Fast and efficient simulation of the FEBID process — •Alexander Kuprava and Michael Huth
	16:30	DS 4.3	GaS - a Two-Dimensional UV emitting material: Challenges of MOCVD Synthesis — •Robin Günkel, Stefan Renato Kachel, Leonard Neuhaus, Lukas Erlemeier, Tigmanshu Sundrial, Johannes Glowatzki, Jürgen Belz, Carsten von Hänisch, J. Michael Gottfried, and Kerstin Volz
	16:45	DS 4.4	MBE growth and characterization of α-FeGe2 films on GaAs(001) — •Moritz N. L. Hansemann, Michael Hanke, Achim Trampert, and Jens Herfort
	17:00	DS 4.5	Energetische Anpassung von Magnetron-Sputter-Abschei- dungsprozessen für defektempfindliche Materialien: Transparente leitfähige Oxide und andere Halbleiter — •Klaus Ellmer