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Münster 1997 – scientific programme

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DS: Dünne Schichten

DS 18: Harte Schichten III

DS 18.4: Talk

Tuesday, March 18, 1997, 16:00–16:15, PC 7

Zusammensetzung, Struktur und Erosionsverhalten amorpher hydrogenisierter Bor–Kohlenstoff (a–B/C:H) Schichten — •A. Annen, A. von Keudell, M. Sass und W. Jacob — Max–Planck–Institut für Plasmaphysik, Boltzmannstr. 2,D–85748 Garching b. München

Das Erosionsverhalten plasmazugewandter Komponenten ist von zentraler Bedeutung bei der Plasma–Wand–Wechselwirkung von Fusionsexperimenten. Zur Konditionierung der Gefäßwände werden amorphe hydrogenisierte Bor–Kohlenstoff (a–B/C:H) Schichten erfolgreich eingesetzt. Mittels RF–PECVD deponierte Schichten wurden bezüglich ihrer Zusammensetzung, Dichte und Struktur mit Ionenstrahlverfahren und FTIR–Spektroskopie untersucht. Ellipsometrische Messungen der Erosion durch Ionenbeschuß aus H2–, D2–, und He–Plasmen sowie durch atomaren Wasserstoff (H0) werden präsentiert. Die chemische und physikalische Erosion der a–B/C:H Schichten wird in Abhängigkeit von der Filmzusammensetzung diskutiert.

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