Konstanz 1998 – wissenschaftliches Programm

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MO: Molekülphysik

MO 14: Methoden

MO 14.3: Vortrag

Donnerstag, 19. März 1998, 14:30–14:45, M627

2D-Massenspektroskopie zur Identifizierung chemischer Zwischenprodukte bei der a-Si:H Dünnschichtabscheidung — •Ewa Witkowicz, Gudrun Andrä, Fritz Falk, Jens Meinschien und Herbert Stafast — Institut für Physikalische Hochtechnologie, Helmholtzweg 4, 07743 Jena

Bei der Dünnschichtabscheidung von amorphem, Silicium (a-Si:H) auf einem Substrat ausgehend von Monosilan treten verschiedene Radikale auf. Die Natur der Radikale hängt von der Art der Molekülanregung und damit der Zersetzung von Silan (Primärprozes) sowie den Sekundärreaktionen ab. Eine definierte Primärreakion,
SiH₄ —→ SiH₂ + H₂
wird durch CO₂-Laseranregung erzielt. SiH₂ reagiert mit SiH₄ weiter zu hochschwingungsangeregtem Disilan . Dieses zerfällt gemäß
Si₂H₆^∗ —→ H₃SiSiH + H₂
und isomerisiert nachfolgend zu H₂SiSiH₂ . Das symmetrische Disilen wird als schichtbildende Spezies postuliert. Der experimentelle Nachweis von Si₂H₄ ist Gegenstand von Untersuchungen. Dabei soll resonante Multiphotoionisierung (REMPI) neben der Ionenmasse zur Identifizierung der Radikale genutzt werden.