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Konstanz 1998 – wissenschaftliches Programm

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MO: Molekülphysik

MO 14: Methoden

MO 14.3: Vortrag

Donnerstag, 19. März 1998, 14:30–14:45, M627

2D-Massenspektroskopie zur Identifizierung chemischer Zwischenprodukte bei der a-Si:H Dünnschichtabscheidung — •Ewa Witkowicz, Gudrun Andrä, Fritz Falk, Jens Meinschien und Herbert Stafast — Institut für Physikalische Hochtechnologie, Helmholtzweg 4, 07743 Jena

Bei der Dünnschichtabscheidung von amorphem, Silicium (a-Si:H) auf einem Substrat ausgehend von Monosilan treten verschiedene Radikale auf. Die Natur der Radikale hängt von der Art der Molekülanregung und damit der Zersetzung von Silan (Primärprozes) sowie den Sekundärreaktionen ab. Eine definierte Primärreakion,
SiH4 —→ SiH2 + H2
wird durch CO2-Laseranregung erzielt. SiH2 reagiert mit SiH4 weiter zu hochschwingungsangeregtem Disilan . Dieses zerfällt gemäß
Si2H6 —→ H3SiSiH + H2
und isomerisiert nachfolgend zu H2SiSiH2 . Das symmetrische Disilen wird als schichtbildende Spezies postuliert. Der experimentelle Nachweis von Si2H4 ist Gegenstand von Untersuchungen. Dabei soll resonante Multiphotoionisierung (REMPI) neben der Ionenmasse zur Identifizierung der Radikale genutzt werden.

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