Regensburg 1998 – wissenschaftliches Programm
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HL: Halbleiterphysik
HL 28: Epitaxie
Donnerstag, 26. März 1998, 10:30–13:00, H14
10:30 | HL 28.1 | Wachstum von AlAsxSb1−x mittels LP-MOVPE — •M. Beerbom, Ch. Giesen, X. Xu und K. Heime | |
10:45 | HL 28.2 | LP-MOVPE von antimonhaltigen Übergittern für den mittleren Infrarotbereich — •D. Püttjer, M. Brožíček, P.H. Lim, A. Behres und K. Heime | |
11:00 | HL 28.3 | Theorie der Struktur und Reaktivität von Stufen auf GaAs(001) — •Peter Kratzer und Matthias Scheffler | |
11:15 | HL 28.4 | Molekularstrahlepitaxie (MBE) atomar glatter Aluminiumnitridfilme auf Si(111) — •H.P.D. Schenk, U. Kaiser, A. Fissel, J. Kräußlich, H. Hobert und W. Richter | |
11:30 | HL 28.5 | Optimierung des MBE-Wachstums auf ZnSe Substraten — •H. Wenisch, M. Fehrer, K. Leonardi, V. Großmann, H. Heinke, K. Ohkawa, D. Hommel, U. Rinas, M. Prokesch und H. Hartmann | |
11:45 | HL 28.6 |
LP-MOVPE von InSb auf GaAs- und InSb-Substraten mit TDMASb — •M. Philippens, Ch. Giesen, M. Beerbom und K. Heime |
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12:00 | HL 28.7 | Modellbildung zur Submonolagen-Epitaxie von Verbindungshalbleitern — •Ch. Heyn, T. Franke und R. Anton | |
12:15 | HL 28.8 | REDUCTION OF THERMAL BUDGET FOR Si/SiGe EPITAXY FOR CMOS INTEGRATION OF HETEROJUNCTION BIPOLAR TRANSISTORS — •Dirk Wolansky, K. Blum, and B. Tillack | |
12:30 | HL 28.9 | Atomic Contro of Doping during SiGe Epitaxy — •Bernd Tillack | |
12:45 | HL 28.10 | Diffusion von Adatomen auf der As–terminierten Si(111) Oberfläche — •Kurt Schroeder and Stefan Blügel | |