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DS: Dünne Schichten
DS 15: Plasma- und Ionentechniken II
Dienstag, 23. März 1999, 15:00–16:00, H 55
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15:00 | DS 15.1 | Fachvortrag: Ionengestützte Abscheidung von epitaktischen Galliumnitridschichten — •J.W. Gerlach, D. Schrupp, R. Schwertberger, K. Volz und B. Rauschenbach |
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15:15 | DS 15.2 | Fachvortrag: Si-C-N-Abscheidung in einem ECR-Mikrowellenplasma — •Ines Dani, Siegfried Peter und Frank Richter |
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15:30 | DS 15.3 | Fachvortrag: Plasmaimmersions-Ionenimplantation von Kaltarbeitsstahl — •G. Thorwarth, S. Mändl, B. Rauschenbach und B. Stritzker |
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15:45 | DS 15.4 | Fachvortrag: Herstellung von Ti-Schichten mittels Vakuumlichtbogenabscheidung — •Boris Straumal, Nikolay Vershinin, Regis Dimitriou und Wolfgang Gust |