Münster 1999 – wissenschaftliches Programm

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DS: Dünne Schichten

DS 2: Ionenimplantation II

Montag, 22. März 1999, 11:00–12:00, PC 7

	11:00	DS 2.1	Fachvortrag: Electrical conductivity in ion implanted TiO2 single crystals — •R. Fromknecht, O. Meyer, I. Khubeis, and S. Massing
	11:15	DS 2.2	Fachvortrag: Tin implanted in rutile single crystals: lattice location and the influence of the analyzing He-beam — •R. Fromknecht, O. Meyer, and I. Khubeis
	11:30	DS 2.3	Fachvortrag: Periodische Strukturen und selbst-affine Topographien auf Graphitoberflächen nach Ionenstrahlerosion — •S. Habenicht, W. Bolse, K.P. Lieb und U. Geyer
	11:45	DS 2.4	Fachvortrag: Retention und Emission von Stickstoff während der Implantation niederenergetischer Stickstoffionen in AISI 316 SS — •S. Parascandola, O. Kruse und W. Möller