Münster 1999 – wissenschaftliches Programm
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M: Metallphysik
M 20: Amorphe Metalle II
M 20.1: Vortrag
Donnerstag, 25. März 1999, 10:15–10:30, S 8
Diffusion in amorphem NiZrAl — •Stefan Flege und Horst Hahn — FB Materialwissenschaft, TU Darmstadt
In Dünnschichtproben des amorphen Systems
NixZryAlz wurde mit Hilfe der
Sekundärionenmassenspektrometrie der
Diffusionskoeffizient von Fremdatomen in Abhängigkeit
von der Al-Konzentration und der Größe des
Traceratoms gemessen. Dabei zeigt sich gegenüber der
binären Legierung NiZr ein starker Rückgang des
Diffusionskoeffizienten insbesondere kleiner Atome wie
Kobalt und Kupfer beim Erreichen einer Zusammensetzung
von etwa Ni1Zr3Al1; die Aktivierungsenthalpie
Q hingegen steigt in diesem Bereich signifikant an.
Daneben werden erste Ergebnisse zur Untersuchung der
Größenabhängigkeit der Tracerdiffusion
oberhalb der Glasübergangstemperatur Tg vorgestellt.
Dazu ist im gewählten System Ni25Zr60Al15
geeignet mit einer Temperaturspanne von über 70 K
zwischen Tg und der Kristallisationstemperatur Tx.