Münster 1999 – wissenschaftliches Programm
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VA: Vakuumphysik und Vakuumtechnik
VA 4: Vakuumverfahrenstechnik II
Dienstag, 23. März 1999, 10:00–15:40, ZH
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10:00 | VA 4.1 | Hauptvortrag: Fokussierte Ionenstrahlen in der Halbleitertechnologie — •Stefan Lipp |
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10:40 | VA 4.2 | Fachvortrag: Maskenlose Implantation von Mikrostrukturen mit feinfokussierten Ionenstrahlen — •Jochen Teichert, Lothar Bischoff und Stephan Hausmann |
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11:10 | VA 4.3 | Hauptvortrag: Eine Gasfeldionenquelle hoher Leuchtkraft — •S. Kalbitzer |
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11:50 | VA 4.4 | Hauptvortrag: The physics and applications of the liquid metal ion source — •Richard G. Forbes |
12:30 | 150 min. break | ||
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15:00 | VA 4.5 | Hauptvortrag: Oberflächenpräzisionsbearbeitung mit Ionenstrahlen — •Axel Schindler, Frieder Bigl, Thomas Hänsel, Andreas Nickel, Renate Fechner und H.-J. Thomas |