Regensburg 2000 – wissenschaftliches Programm

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DS: Dünne Schichten

DS 33: Schichtcharakterisierung II

DS 33.5: Fachvortrag

Donnerstag, 30. März 2000, 10:30–10:45, H32

Einfluß von Feldverteilungen an Festkörperoberflächen auf chemische und magnetische Kontraste in der Photoemissionselektronenmikroskopie — •M. Klais¹, O. Schmidt¹, A. Oelsner¹, S. Nepijko¹, G. Fecher^1,2, G. Schönhense¹, N. Cramer³, U. Muschiol³ und C. M. Schneider³ — ¹Johannes Gutenberg-Universität Mainz — ²Academia Sinica, Taipei, Taiwan — ³Institut für Festkörper- und Werkstofforschung Dresden e.V.

Es wurden unter Nutzung von zirkular und linear polarisierter Synchrotronstrahlung magnetische und chemische Kontraste strukturierter Permalloy- und unterschiedlich legierter Edelstahlproben mittels Photoemissionselektronenmikroskopie (PEEM) untersucht. Während in der Schwellenphotoemission die Kontraste im Wesentlichen durch Austrittsarbeitsunterschiede entstehen, kann man bei Variation der Anregungsenergie im Bereich der weichen Röntgenstrahlung die Elementverteilung an Festkörperoberflächen mittles ortsaufgelöster Absorptionsspektroskopie (µ-XANES) abbilden. Außerdem ist es möglich, mit zirkularpolarisierter Röntgenstrahlung magnetische Kontraste an Absorptionskanten ferromagnetischer Elemente sichtbar zu machen (MCD). In beiden Fällen ist der Kontrast indirekt von der lokalen Feldverteilung an der Festkörperoberfläche abhängig. Dabei spielen sowohl Austrittsarbeitsdifferenzen, als auch Streufelder magnetischer Domänen eine besondere Rolle.

(Förderung: MWFZ Mainz)