Regensburg 2000 – wissenschaftliches Programm
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O: Oberflächenphysik
O 11: Postersession (Eröffnung)
O 11.140: Poster
Montag, 27. März 2000, 19:00–22:00, Bereich C
Labor–EUV–PEEM zur Oberflächenuntersuchung — •Oliver Wehmeyer1, Ulf Kleineberg1, Ulrich Heinzmann1, Guido Schriever2, Klaus Bergmann2, Rainer Lebert2, Michael Merkel3 und Gerd Schönhense3 — 1Universität Bielefeld, Molekül– und Oberflächenphysik, Universitätsstraße 25, D-33615 Bielefeld — 2ILT der FhG, Steinbachstraße 15, D-52074 Aachen — 3Focus GmbH, Am Birkhecker Berg 20, D-65510 Hünstetten
Wir stellen ein Labor–EUV–Photoemissions–Elektronenmikroskop als ein neues Werkzeug für die topographische und elementspezifische Oberflächenanalyse vor. Der experimentelle Aufbau besteht aus einer laserinduzierten Lithiumplasmalichtquelle als Labor–EUV–Quelle, einem multilayerbeschichteten ellipsoidalen Kondensorspiegel und einem für diesen Aufbau angepassten PEEM (basierend auf einem IS–PEEM, Fa. Focus).
Das Gesamtsystem wurde hinsichtlich seiner Leistungsdaten wie fokussierter Pulsintensität auf der Probe, lateraler Auflösung im PEEM sowie bildunterdrückender Raumladungseffekte charakterisiert. An einer mikrostrukturierten Probe (3 µm Pd–Streifen auf Si) wurde eine laterale Auflösung von ca. 600 nm gemessen. An dieser Probe wurden auch erste Experimente im Time of Flight Mikrospektroskopiemodus unter Ausnutzung der Zeitstruktur der LPP–Quelle durchgeführt. Das Potential dieses Verfahren für die Mikrospektroskopie von elektronischer Innerschalen–Anregung wird diskutiert.