Regensburg 2000 – scientific programme
Parts | Days | Selection | Search | Downloads | Help
O: Oberflächenphysik
O 9: Adsorption an Oberflächen (II)
O 9.10: Talk
Monday, March 27, 2000, 18:30–18:45, H37
XSW-Untersuchungen der Photonen-stimulierten Desorption an Cl/Si(111)-(1×1) — •J. I. Flege1, T. Schmidt2, J. Falta2 und G. Materlik3 — 1II. Inst. f. Experimentalphysik, Uni Hamburg, Luruper Chaussee 149, D–22761 Hamburg — 2Inst. f. Festkörperphysik, Uni Bremen, Postfach 330440, D–28334 Bremen — 3HASYLAB am DESY, Notkestr. 85, D–22607 Hamburg
Die Photonen-stimulierte Desorption von Cl+- und Cl2+-Ionen von der Si(111)-Oberfläche wurde mit stehenden Röntgenwellenfeldern (XSW) unter Verwendung von Synchrotronstrahlung untersucht. Dabei dienten die mittels Flugzeitspektroskopie identifizierten Cl-Ionen als inelastisches Signal zur Bestimmung des Ortes der desorptionswirksamen Anregung [1]. In Abhängigkeit von der Photonenenergie wird ein starker Anstieg der Cl+- und insbesondere der Cl2+-Desorption an der Cl-K-Kante beobachtet. XSW-Messungen oberhalb und unterhalb dieser Absorptionskante lassen auf den Cl-Desorptionsplatz schließen. Unterschiede zu XSW-Ergebnissen, die gleichzeitig mit Cl-1s-Photoelektronen als Sekundärsignal erzielt wurden, werden diskutiert. Ein Modell für die Desorptionsmechanismen wird vorgeschlagen.
[1] J. Falta, A. Hille, T. Schmidt, G. Materlik, Surf. Sci. 436 (1999) L677-L682