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SYIS: In-situ-Charakterisierung von Schichtabscheideprozessen

SYIS 3: In-Situ-Charakterisierung: Schichtanalytik

Montag, 27. März 2000, 17:30–19:00, H 32

	17:30	SYIS 3.1	Hauptvortrag: In-situ-Diagnostik der plasmagestützten Schichtabscheidung mit IR-Reflexionsspektroskopie — •A. Lunk, P. Bachem, P. Scheible und L. Ulrich
	18:15	SYIS 3.2	Hauptvortrag: In-situ-Charakterisierung von dünnen organischen Schichten und Polymeroberflächen in Plasmaprozessen — •J. Meichsner