Regensburg 2000 – wissenschaftliches Programm
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SYIS: In-situ-Charakterisierung von Schichtabscheideprozessen
SYIS 3: In-Situ-Charakterisierung: Schichtanalytik
Montag, 27. März 2000, 17:30–19:00, H 32
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17:30 | SYIS 3.1 | Hauptvortrag: In-situ-Diagnostik der plasmagestützten Schichtabscheidung mit IR-Reflexionsspektroskopie — •A. Lunk, P. Bachem, P. Scheible und L. Ulrich |
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18:15 | SYIS 3.2 | Hauptvortrag: In-situ-Charakterisierung von dünnen organischen Schichten und Polymeroberflächen in Plasmaprozessen — •J. Meichsner |