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Hamburg 2001 – wissenschaftliches Programm

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O: Oberflächenphysik

O 38: Adsorption an Oberfl
ächen (IV)

Freitag, 30. März 2001, 11:15–13:15, C

11:15 O 38.1 Ag-induzierte Nano-Facettierung von vicinalem Si(001) — •J. Bauer, R. Hild und M. Horn-von Hoegen
11:30 O 38.2 Untersuchung der initialen Reaktionsplätze von molekularem Wasserstoff auf Si(001) mittels STM und Nanosekunden-Laserdesorption — •M. Dürr, Z. Hu, A. Biedermann, U. Höfer und T. F. Heinz
11:45 O 38.3 Adsorption von Ethylen auf flachen und gestuften Si(100)- und Ge/Si(100)-Oberflächen — •D. Bröcker, D. Menzel und W. Widdra
12:00 O 38.4 Electronic properties of Si surfaces during electrochemical deposition of organic molecules — •Prosper Hartig, Joerg Rappich, and Thomas Dittrich
12:15 O 38.5 HREELS Study of Benzene on Si(001)-(2×1): Identification of a Step Species — •B. Naydenov, K.L. Kostov, and W. Widdra
12:30 O 38.6 Synthese von Graphitinseln durch eine Oberflächen-Induzierte Reaktion — •Gunda Beernink, Markus Gunia und Christof Wöll
12:45 O 38.7 Structural and electronic properties of a molecular wire — •Jens Kuntze, Hao Tang, André Gourdon, Christian Joachim, and Richard Berndt
13:00 O 38.8 Molekularer Schalter realisiert durch die Manipulation einzelner Moleküle mit dem Tieftemperatur-Rastertunnelmikroskop — •Francesca Moresco, Gerhard Meyer, Karl-Heinz Rieder, Andre Gourdon, Hao Tang und Christian Joachim
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