Hamburg 2001 – wissenschaftliches Programm

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O: Oberflächenphysik

O 40: Oxide und Isolatoren (II)

O 40.2: Vortrag

Freitag, 30. März 2001, 11:30–11:45, K

Strukturuntersuchung von Adsorbaten auf NiO{100} mit Photoelektronenbeugung — •Martin Kittel¹, J.T. Hoeft¹, M. Polcik¹, R. Terborg¹, R. Lindsay¹, O. Schaff¹, A.M. Bradshaw¹, R. Toomes², J.-H. Kang², D.P. Woodruff², M. Pascal³ und C.L.A. Lamont³ — ¹Fritz-Haber-Institut der Max-Planck-Gesellschaft, Faradayweg 4-6, 14195 Berlin-Dahlem — ²Department of Physics, University of Warwick, Coventry CV4 7AL, England — ³Dept. of Chemistry, University of Huddersfield, Huddersfield HD1 3DH, UK

Trotz der beachtlichen Zahl quantitativer Strukturanalysen von Adsorbaten auf Oberflächen beschäftigen sich diese meist mit Metall- oder Halbleiteroberflächen. Im Gegensatz dazu gibt es nur wenige Untersuchungen von Oxidoberflächen. Photoelektronenbeugung im scanned-energy mode (PhD) in Verbindung mit Simulationen mittels Vielfachstreutheorie hat sich als effizientes Hilfsmittel zur quantitativen Bestimmung von Adorbatstrukturen erwiesen. Hier stellen wir die Resultate von Strukturuntersuchungen von mehreren Adsorbaten vor: NH₃, CO und NO auf NiO{100}, das als dünner epitaktischer Film auf Ni{100} präpariert wurde[1]. NH₃ und NO binden über den Stickstoff, CO über den Kohlenstoff. Alle untersuchten Adsorbate belegen on-top-Plätze über einem Ni-Atom der Oberfläche. Es werden quantitative Ergebnisse für die Oberflächenstrukturen vorgestellt und mit theoretischen Rechnungen verglichen.

[1] M. Bäumer, D. Cappus, G. Illing, H. Kuhlenbeck und H.-J. Freund, J. Vac. Sci. Technol. A 1992, 10, 2407