Hamburg 2001 – scientific programme
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O: Oberflächenphysik
O 40: Oxide und Isolatoren (II)
O 40.2: Talk
Friday, March 30, 2001, 11:30–11:45, K
Strukturuntersuchung von Adsorbaten auf NiO{100} mit Photoelektronenbeugung — •Martin Kittel1, J.T. Hoeft1, M. Polcik1, R. Terborg1, R. Lindsay1, O. Schaff1, A.M. Bradshaw1, R. Toomes2, J.-H. Kang2, D.P. Woodruff2, M. Pascal3 und C.L.A. Lamont3 — 1Fritz-Haber-Institut der Max-Planck-Gesellschaft, Faradayweg 4-6, 14195 Berlin-Dahlem — 2Department of Physics, University of Warwick, Coventry CV4 7AL, England — 3Dept. of Chemistry, University of Huddersfield, Huddersfield HD1 3DH, UK
Trotz der beachtlichen Zahl quantitativer Strukturanalysen von Adsorbaten auf Oberflächen beschäftigen sich diese meist mit Metall- oder Halbleiteroberflächen. Im Gegensatz dazu gibt es nur wenige Untersuchungen von Oxidoberflächen. Photoelektronenbeugung im scanned-energy mode (PhD) in Verbindung mit Simulationen mittels Vielfachstreutheorie hat sich als effizientes Hilfsmittel zur quantitativen Bestimmung von Adorbatstrukturen erwiesen. Hier stellen wir die Resultate von Strukturuntersuchungen von mehreren Adsorbaten vor: NH3, CO und NO auf NiO{100}, das als dünner epitaktischer Film auf Ni{100} präpariert wurde[1]. NH3 und NO binden über den Stickstoff, CO über den Kohlenstoff. Alle untersuchten Adsorbate belegen on-top-Plätze über einem Ni-Atom der Oberfläche. Es werden quantitative Ergebnisse für die Oberflächenstrukturen vorgestellt und mit theoretischen Rechnungen verglichen.
[1] M. Bäumer, D. Cappus, G. Illing, H. Kuhlenbeck und H.-J. Freund, J. Vac. Sci. Technol. A 1992, 10, 2407