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Hamburg 2001 – wissenschaftliches Programm

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SYOD: Oxidische Dünnschichten

SYOD 1: Oxidische Dünnschichten

Donnerstag, 29. März 2001, 14:30–18:00, J

14:30 SYOD 1.1 Hauptvortrag: HTSL-Dünnschichten für Anwendungen der Elektrotechnik — •B. Utz, R. Nies, W. Schilling, B. Seebacher, W. Schmidt und H.-W. Neumüller
15:00 SYOD 1.2 Hauptvortrag: Textur- und Mikrostrukturentwicklung bei ionenstrahlunterstützter Deposition von MgO-Schichten — •R. Hühne
15:30 SYOD 1.3 Hauptvortrag: Mechanismen der ionenstrahlunterstützten Texturbildung in Yttrium-stabilisierten Zirkondioxid-Filmen — •J. Dzick, S. Sievers, L. O. Kautschor, K. Thiele, C. Brandt, Ch. Jooss, J. Hoffmann und H. C. Freyhardt
16:00 SYOD 1.4 Hauptvortrag: Das CSD-Verfahren - Ein hochflexibler Weg zur Herstellung oxidkeramischer Dünnschichten für die Mikroelektronik und Mikrosystemtechnik — •Theodor Schneller
16:30 SYOD 1.5 Hauptvortrag: Etching of refractory metal electrodes and complex oxides — •Hermann Kohlstedt, Stefan Schneider, and Rainer Waser
17:00 SYOD 1.6 Hauptvortrag: Magnetotransporteigenschaften dünner Schichten magnetischer Perowskite — •Gerhard Jakob, Wilhelm Westerbug, Frank Martin, Daniel Reisinger und Nicole Auth
17:30 SYOD 1.7 Hauptvortrag: Exchange coupling in LaFeO3 / Co thin film systems — •Jin Won Seo, Jean Fompeyrine, Heinz Siegwart, and Jean-Pierre Locquet
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