Regensburg 2002 – wissenschaftliches Programm

Bereiche | Tage | Auswahl | Suche | Downloads | Hilfe

SYPO: Plasmaoberflächentechnik – Beschichten, Ätzen und Modifizieren

SYPO III: HV III

Montag, 11. März 2002, 15:30–16:15, HS 32

	15:30	SYPO III.1	Hauptvortrag: Multischichterzeugung für die EUV-Lithographie mit Ionenstrahlen — •Thomas Chassé, Horst Neumann und Bernd Rauschenbach