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SYPO: Plasmaoberflächentechnik – Beschichten, Ätzen und Modifizieren

SYPO V: HV V

Montag, 11. März 2002, 17:15–17:45, HS 32

	17:15	SYPO V.1	Hauptvortrag: Staubbildung bei der Abscheidung von a-C:H-Filmen — •J. Berndt, S. Hong, E. Kovacevic, I. Stefanovic und J. Winter