Berlin 2005 – wissenschaftliches Programm

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DS: Dünne Schichten

DS 13: Ionenstrahlverfahren II

Montag, 7. März 2005, 14:15–15:15, TU HS107

	14:15	DS 13.1	Topography of simultaneously sputtered and rotated solid surfaces: A numerical study — •Emmanuel O. Yewande, Reiner Kree, and Alexander K. Hartmann
	14:30	DS 13.2	Ion induced pattern formation on Ge and Si surfaces — •Bashkim Ziberi, Frank Frost, and Bernd Rauschenbach
	14:45	DS 13.3	Smoothening, mixing and sputtering of semimetal- and halogenide-coatings by swift heavy ion irradiation — •Hartmut Paulus, Wolfgang Bolse, and Bouschaib Bahouchi
	15:00	DS 13.4	Einfluss der Substrattemperatur und der Substratvorstrukturierung auf das 3D-Nanostrukturwachstum bei der Ionenstrahl-Sputterabscheidung mit GLAD — •John Fahlteich, Eva Schubert, Bernd Rauschenbach und Thomas Höche