Berlin 2005 – wissenschaftliches Programm

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DS: Dünne Schichten

DS 19: Schichtabscheidung

Dienstag, 8. März 2005, 13:45–15:15, TU HS107

	13:45	DS 19.1	Hauptvortrag: In-situ-Charakterisierung der Schichtabscheidung mit gepulsten Magnetrons — •Thomas Welzel
	14:30	DS 19.2	The preparation of diamond / tungsten carbide composite films by microwave plasma assisted chemical vapour deposition (MWCVD) — •Hisham Abu Samra, Srikanth Vadali, Xin Jiang, and Hans-Joerg Deiseroth
	14:45	DS 19.3	Physics of the formation of polycrystalline silicon thin films by aluminum-induced layer exchange — •Jens Schneider, Juliane Klein, Andrey Sarikov, Martin Muske, Stefan Gall und Walther Fuhs
	15:00	DS 19.4	Investigation of a pulsed magnetron discharge by time-resolved diagnostics — •Thoralf Dunger, Thomas Welzel, Stephan Welzel und Frank Richter