Berlin 2005 – scientific programme
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DS: Dünne Schichten
DS 23: Postersitzung I
DS 23.26: Poster
Friday, March 4, 2005, 16:00–18:30, Poster TU B
Deposition von TiOx-Schichten durch reaktives Sputtern in einer DC-Magnetronentladung — •Stefan Wrehde1, Marion Quaas2, Hartmut Steffen1, Harm Wulff2 und Rainer Hippler1 — 1Institut für Physik, Ernst-Moritz-Arndt-Universität Greifswald, Domstraße 10a, 17489 Greifswald — 2Institut für Chemie und Biochemie, Ernst-Moritz-Arndt-Universität Greifswald, Soldmannstraße 16, 17489 Greifswald
In einem reaktiven DC-Magnetronplasma wurden unter verschiedenen Bedingungen TiOx-Schichten abgeschieden. Dem Arbeitsgas Argon wurde Sauerstoff als Reaktivgas beigemischt. Die Parameter Druck, Entladungsleistung, Reaktivgasfluss, Vorspannung am Substrat und Betriebsmodus des Magnetrons ("balanced" bzw. "unbalanced") wurden variiert.
Die abgeschieden Schichten wurden mit Hilfe verschiedener Oberflächenanalyseverfahren (XPS, XRD) untersucht. Hierbei konnte festgestellt werden, dass sowohl der Betriebsmodus des Magnetrons als auch die Vorspannung am Substrat den Sauerstoffeinbau in die Schichten wesentlich beeinflussen.