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DS: Dünne Schichten

DS 23: Postersitzung I

DS 23.26: Poster

Freitag, 4. März 2005, 16:00–18:30, Poster TU B

Deposition von TiO_x-Schichten durch reaktives Sputtern in einer DC-Magnetronentladung — •Stefan Wrehde¹, Marion Quaas², Hartmut Steffen¹, Harm Wulff² und Rainer Hippler¹ — ¹Institut für Physik, Ernst-Moritz-Arndt-Universität Greifswald, Domstraße 10a, 17489 Greifswald — ²Institut für Chemie und Biochemie, Ernst-Moritz-Arndt-Universität Greifswald, Soldmannstraße 16, 17489 Greifswald

In einem reaktiven DC-Magnetronplasma wurden unter verschiedenen Bedingungen TiO_x-Schichten abgeschieden. Dem Arbeitsgas Argon wurde Sauerstoff als Reaktivgas beigemischt. Die Parameter Druck, Entladungsleistung, Reaktivgasfluss, Vorspannung am Substrat und Betriebsmodus des Magnetrons ("balanced" bzw. "unbalanced") wurden variiert.

Die abgeschieden Schichten wurden mit Hilfe verschiedener Oberflächenanalyseverfahren (XPS, XRD) untersucht. Hierbei konnte festgestellt werden, dass sowohl der Betriebsmodus des Magnetrons als auch die Vorspannung am Substrat den Sauerstoffeinbau in die Schichten wesentlich beeinflussen.