Düsseldorf 2007 – wissenschaftliches Programm

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P: Fachverband Plasmaphysik

P 15: Staubige Plasmen

P 15.5: Vortrag

Mittwoch, 21. März 2007, 15:35–15:50, 6F

Untersuchungen zum Staub- und Schichtwachstum in Ar / N₂:C₂H₂ Plasmen mit Hilfe der (Rayleigh-Mie-Streu-) Ellipsometrie — •Raphaela Weiß¹, Suk-Ho Hong², Jens Ränsch¹ und Jörg Winter¹ — ¹Ruhr-Universität Bochum, EP II, 44780 Bochum, Germany — ²Association EURATOM-CEA sur la Fusion Contrôlée, DRFC/SIPP/GIPP, CEA/Cadarache, 13108 Saint Paul-lez-Durance, France

Zur in situ Bestimmung der Eigenschaften funktioneller Nanopartikel wurde die Rayleigh-Mie-Ellipsometrie verwendet. Die Partikel wurden in einer CCP-Entladung, welche mit einer Gasmischung aus Argon bzw. Stickstoff und Acetylen betrieben wurde, synthetisiert. Während des Staubwachstumsprozesses wurden die Nanopartikel von einem Argon-Ionenlaser beleuchtet und die Polarisationsänderung unter 90^∘ von einem Photomultiplier detektiert. Mit Hilfe der Mie-Theorie lassen sich Aussagen über die Änderung des Partikelradius’ und über die optischen Konstanten n und k der Staubteilchen treffen.

Wir präsentieren und diskutieren Ergebnisse dieser Rayleigh-Mie-Ellipsometrie-Messungen an Plasmen mit unterschiedlichen Entladungsparametern wie die eingekoppelte Leistung oder die Gaszusammensetzung. Diese Ergebnisse werden mit den Eigenschaften von dünnen polymerartigen Schichten verglichen, die aus den gleichen Plasmen abgeschieden wurden.

Diese Arbeit wird gefördert vom Graduiertenkolleg 1051 und dem SFB 591.