Jena 2013 – wissenschaftliches Programm
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P: Fachverband Plasmaphysik
P 23: Theorie und Modellierung von Niedertemperaturplasmen II
P 23.5: Vortrag
Freitag, 1. März 2013, 10:45–11:00, HS 3
Theoretische Basis von Plasma- und Schichtmodellierung in optischen Beschichtungsprozessen — •Benjamin Schröder1, Ralf Peter Brinkmann1, Marcus Turowski2, Thomas Frauenheim3, Thomas Köhler3, Marc Landmann4, Jens Harhausen5, Rüdiger Foest5, Andreas Ohl5, Norbert Kaiser6, Olaf Stenzel6 und Steffen Wilbrandt6 — 1Lehrstuhl für Theoretische Elektrotechnik, Ruhr-Universität Bochum — 2LZH, Hannover — 3BCCMS, Universität Bremen — 4Nachwuchsforschergruppe "Computational Materials Science", Universität Paderborn — 5INP Greifswald e.V. — 6IOF, Jena
Die Modellierung von optischen Beschichtungsprozessen mit den Techniken Plasma Ion Assisted Deposition (PIAD) und Ion Beam Sputtering (IBS) wurde im Rahmen des BMBF-geförderten Projekts "PluTO" untersucht. In diesen Prozessen sind nicht nur dissoziierte Beschichtungsdämpfe und Prozessgase von Bedeutung, sondern auch Plasmen, die entweder zwangsläufig erzeugt werden (IBS-Prozesse) oder gezielt zur Schichtverbesserung genutzt werden (PIAD-Prozesse). Es soll dargestellt werden, welche Möglichkeiten und Techniken zur Modellierung des Plasmas und Schichtwachstums in optischen Beschichtungsprozessen in Entwicklung und Einsatz sind, wobei insbesondere auf die Plasma-Modellierung von PIAD-Prozessen eingegangen wird.