Jena 2013 – wissenschaftliches Programm

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SYOS: Symposium Plasma und Optische Schichten

SYOS 2: Plasma und Optische Technologien II

Dienstag, 26. Februar 2013, 14:00–16:00, HS 2

	14:00	SYOS 2.1	Hauptvortrag: Diagnostik und Steuerung von PIAD-Prozessen — •Jens Harhausen, Rüdiger Foest, Andreas Ohl, Dieter Gäbler, Norbert Kaiser, Olaf Stenzel, Steffen Wilbrandt, Ralf-Peter Brinkmann, Benjamin Schröder, Robert Storch und Tim Styrnoll
	14:30	SYOS 2.2	Hauptvortrag: Charakterisierung beschichtender Plasmen — •Peter Awakowicz
	15:00	SYOS 2.3	Hauptvortrag: Plasmadiagnostik und Prozessüberwachung mit der Multipolresonanzsonde — •Ralf Peter Brinkmann, Michael Friedrichs, Martin Lapke, Jens Oberrath, Christian Schulz, Robert Storch, Tim Styrnoll, Peter Awakowitz, Thomas Mussenbrock, Thomas Musch und Ilona Rolfes
	15:30	SYOS 2.4	Hauptvortrag: Analyse des Ionenstrahlzerstäubens mittels Plasmadiagnostik — •Carsten Schmitz